特許
J-GLOBAL ID：200903058310609637

赤外線検知素子の製造方法

発明者：
樋熊 弘子

樋熊 弘子 について

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宮下 章志

宮下 章志 について

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内川 英興

内川 英興 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-125709
公開番号（公開出願番号）：特開2001-303236
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】【課題】 低い基板温度で製造でき、高感度のボロメーター方式による赤外線検知素子の量産を可能とする製造方法を提供する。【解決手段】 Bi<SB>1-x</SB>A<SB>x</SB>Mn<SB>1</SB>O<SB>3</SB>(元素Aは希土類金属もしくはアルカリ土類金属のいずれかより1種以上の元素、0≦x<1)を主成分とする薄膜をボロメータ-とする赤外線検知素子を製造するために、金属成分の比がBi:A:Mn=1-x:x:1である酸化物薄膜を、100°C以上500°C未満の基板温度にて、酸素もしくはオゾンを含有するガス雰囲気中でスパッタリングにより形成する工程と、この酸化物薄膜に酸素もしくはオゾンを含有するガスの雰囲気中で熱処理を施すことによって、薄膜の体積抵抗率を赤外線検知回路で動作できるレベルに低減させる工程とにより、ボロメーター用薄膜を作製する。
請求項（抜粋）：
Bi<SB>1-x</SB>A<SB>x</SB>Mn<SB>1</SB>O<SB>3</SB>(元素Aは希土類金属もしくはアルカリ土類金属のいずれかより1種以上の元素、0≦x<1)を主成分とするボロメーター用薄膜を用いた赤外線検知素子の製造方法であって、100°C以上500°C未満の基板温度にて、酸素もしくはオゾンを含有するガス雰囲気中でスパッタリングにより金属成分の比がBi:A:Mn=1-x:x:1である酸化物薄膜を形成する工程と、上記酸化物薄膜に酸素もしくはオゾンを含有するガスの雰囲気中で熱処理を施して上記酸化物薄膜の体積抵抗率を赤外線検知回路で動作できるレベルに低減する工程とを備えることを特徴とする赤外線検知素子の製造方法。
IPC (7件)：
C23C 14/08 ,  C23C 14/58 ,  G01J 1/02 ,  H01C 7/04 ,  H01L 27/14 ,  H01L 35/18 ,  H04N 5/33
FI (7件)：
C23C 14/08 K ,  C23C 14/58 C ,  G01J 1/02 C ,  H01C 7/04 ,  H01L 35/18 ,  H04N 5/33 ,  H01L 27/14 K
Fターム (30件)：
2G065AB02 ,  2G065BA12 ,  2G065BA34 ,  2G065DA20 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA46 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA06 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01 ,  4M118AA01 ,  4M118AB01 ,  4M118BA05 ,  4M118CA01 ,  4M118CA17 ,  4M118CA35 ,  4M118CB20 ,  4M118FB09 ,  4M118FB17 ,  4M118FB22 ,  5C024AX06 ,  5C024CY47 ,  5C024GX08 ,  5E034BA09 ,  5E034BB08 ,  5E034BC06 ,  5E034DE16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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