特許

J-GLOBAL ID：200903058318119078

大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法

発明者： 村中 達生 ,  金井 紀夫
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119738
公開番号（公開出願番号）：特開2000-313613
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、均一な粒子径を有し、粒度分布がシャープな平均粒子径100〜500nmのシリカ粒子を含有するシリカゾルの工業的に有利な製造方法を提供することにある。【解決手段】 本発明の平均粒子径100〜500nmの大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法は、ビルドアップ工程及び濃縮工程を備えてなるシリカゾルの製造方法において、濃縮工程の最終工程として、公称孔径が0.05〜0.5μmの範囲内にある精密濾過膜を用いる加圧下での精密濾過を行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ビルドアップ工程及び濃縮工程を備えてなるシリカゾルの製造方法において、濃縮工程の最終工程として、公称孔径が0.05〜0.5μmの範囲内にある精密濾過膜を用いる加圧下での精密濾過を行うことを特徴とする平均粒子径100〜500nmの大粒子径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/148 ,  B01D 61/14 510

FI (2件)：

C01B 33/148 ,  B01D 61/14 510

Fターム (43件)：

4D006GA07 ,  4D006KE03P ,  4D006KE07Q ,  4D006KE16R ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006MA33 ,  4D006MC03 ,  4D006MC04 ,  4D006MC05 ,  4D006MC14 ,  4D006MC16 ,  4D006MC18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC39 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006PA03 ,  4D006PB15 ,  4D006PB20 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ22 ,  4G072LL06 ,  4G072LL09 ,  4G072MM14 ,  4G072MM22 ,  4G072PP01 ,  4G072PP09 ,  4G072TT01 ,  4G072UU01 ,  4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 大粒径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-223098   出願人：日産化学工業株式会社
• コロイダルシリカの濃縮方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-341081   出願人：日本碍子株式会社, 旭電化工業株式会社
• 特開昭63-064911