特許

J-GLOBAL ID：200903058323675582

光触媒被膜の形成方法および被膜形成装置

発明者： 羽音 大作 ,  工藤 卓磨
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 志村 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102193
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279749
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 高温焼成を行わずに、担体の全表面にわたって均一な被膜を高い生産性をもって形成させる。【解決手段】 第1の坩堝31にシリコン、第2の坩堝32にチタンを入れ、チャンバ10内を10-3torr程度に排気し、ホローカソード型のプラズマガン40から、アノードとなる第1の坩堝31にプラズマビームPを照射する。ガス導入装置60から酸素ガスを導入し、ホルダー50の下面のガス噴出孔から噴出させることにより、担体100の付近の局所圧力を10-2torr程度に維持する。担体100の表面には、酸化シリコンからなる保護膜が形成される。続いて、移動テーブル25を右方に移動し、第2の坩堝32にプラズマビームPを照射し、ガス導入装置60から酸素ガスを導入しながら担体100表面の保護膜の上に、酸化チタンからなる光触媒被膜を形成する。

請求項（抜粋）：

被覆対象となる担体の表面に、光触媒作用を有する被膜を形成する方法であって、チャンバ内に、光触媒の材料となる材料物質を入れた導電性の坩堝と、ホルダーに保持された担体と、不活性ガスとともに荷電粒子を放出するホローカソード型の荷電粒子発生装置と、をそれぞれ用意し、前記荷電粒子発生装置内にチャンバ内のガスが流入しないように、チャンバ内を吸引して圧力を低下させた状態で、前記荷電粒子発生装置と前記坩堝との間に電圧を印加して前記荷電粒子発生装置で発生させた荷電粒子を前記坩堝内の材料物質に照射し、チャンバ内に材料物質をイオンとして放出させ、チャンバ内の平均圧力よりも前記担体近傍の圧力が高くなるように、前記ホルダーもしくはその近傍からガスを吹き出させながら、放出させた前記材料物質のイオンを前記担体表面に付着させることを特徴とする光触媒被膜の形成方法。

IPC (2件)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/06

FI (2件)：

C23C 14/32 B ,  C23C 14/06 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光触媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-247307   出願人：株式会社ブリヂストン
• イオンプレーティング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053325   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-002768
  
• 特開平4-002768