特許

J-GLOBAL ID：200903058376225031

表面に大きな凹凸を有する石英ガラス治具およびその製造方法

発明者： 稲木 恭一
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-342157
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169165
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【目的】複数回の洗浄後においてもCVD工程などで形成される酸化膜にマイクロクラックの形成がなく、パーティクルの発生による半導体製品の汚染がない石英ガラス治具およびその製造方法を提供すること。【解決手段】表面に大きい凹凸を有する石英ガラス治具であって、前記凹凸の中心線粗さRaが2〜30μm、凹凸の最大高さRmaxが10〜150μm、凹凸の幅が10〜500μmの範囲にあることを特徴とする石英ガラス治具およびマイクロクラックが存在しない微細な凹凸を有する石英ガラス治具表面に無機質の薄膜を形成したのち、該薄膜を複数回洗浄する前記石英ガラス治具の製造方法。

請求項（抜粋）：

表面に大きい凹凸を有する石英ガラス治具であって、前記凹凸の中心線粗さRaが2〜30μm、凹凸の最大高さRmaxが10〜150μm、凹凸の幅が10〜500μmの範囲にあることを特徴とする石英ガラス治具。

IPC (4件)：

C03B 20/00 ,  C03C 15/00 ,  C03C 17/245 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

C03B 20/00 K ,  C03C 15/00 E ,  C03C 17/245 A ,  H01L 21/68 N

Fターム (11件)：

4G014AH23 ,  4G059AA20 ,  4G059AB05 ,  4G059AC01 ,  4G059EA05 ,  4G059EA12 ,  5F031CA02 ,  5F031EA01 ,  5F031HA62 ,  5F031MA28 ,  5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体の製造中に使用するための石英ガラス部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-081029   出願人：信越石英株式会社, ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング