特許

J-GLOBAL ID：200903058430110474

処理装置及びその使用方法

発明者： 佐伯 弘明 ,  坂本 高雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354476
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201951
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 カセット室内外にダミー用カセットを設けることによりダミーラン時におけるオペレータに対する煩雑さをなくすことができる処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを処理する処理室4A〜4Cと、通常カセットC1を収容するカセット室を有する処理装置において、上記カセット室内の昇降手段22上に通常カセットとダミー被処理体DWを収容するダミー用カセットC2を設ける。そして、電源投入後やクリーニング処理後のダミーラン時に上記ダミー用カセット内のダミー被処理体を使用し、オペレータの煩雑さをなくす。

請求項（抜粋）：

被処理体を処理する処理室と、複数の被処理体を収容可能な通常カセットを昇降手段上に載置可能に収容するカセット室とを有する処理装置において、前記カセット室内の前記昇降手段上に前記通常カセットとダミー被処理体を収容するダミー用カセットとを設けるように構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 1/00 537 ,  B65G 1/06 511

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-054843
  
• 特開昭59-113638
  
• ドライクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-028576   出願人：富士電機株式会社
• 特開平3-054843
  
• 特開昭59-113638