特許
J-GLOBAL ID:200903058463643770

非線形光学媒質および非線形光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 史旺
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-066843
公開番号(公開出願番号):特開平10-260434
出願日: 1997年03月19日
公開日(公表日): 1998年09月29日
要約:
【要約】【課題】 小さな光強度でも応答速度が速く、比較的大きな非線形屈折率を有し、低損失で加工性に優れ、相互作用長を長くできる非線形光学媒質およびそれを用いた非線形光学装置を実現する。【解決手段】 Si 結晶、アモルファスSi 、ポーラスSi 、Si 微粒子分散材料、Si 高分子の少なくとも1つを主成分として非線形光学媒質を構成し、非共鳴領域(光の吸収が少ない透過領域)に限って使用する。この非共鳴領域には、バンドギャップエネルギーの1/2、1/3の値に対応する波長や、Si 高分子や微粒子系に特徴的に見られる離散的な2光子吸収または3光子吸収に対応する波長を含む。
請求項(抜粋):
シリコン(Si )結晶、アモルファスSi 、ポーラスSi 、Si 微粒子分散材料、Si 高分子の少なくとも1つを主成分として構成され、非共鳴領域(バンドギャップエネルギー(Eg )以下のエネルギーに相当する波長の領域)で使用することを特徴とする非線形光学媒質。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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