噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 青木博昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-149810
公開番号（公開出願番号）：特開2006-326396
出願日： 2005年05月23日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】噴霧される液滴への浮遊粒子の付着の抑制が図られた噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機を提供する。【解決手段】本発明に係る噴霧盤34においては、上部取付円板52に形成された貫通孔52aを介して上下取付円板50に原液が供給されると、原液は上下取付円板50の周縁方向に流れ、噴霧用コロ62の周面62aに沿って上昇して膜状となる。膜状となった後、原液は、液滴状となって噴霧用コロ62の周面62aから離脱し、上下取付円板50から外方に噴霧される。なお、上部取付円板52の上面52bにはピン55が立設されているため、このピン55によって貫通孔52aへ向かう空気の流れが遮られる。それにより、上下取付円板50内に流入する空気の量が抑制される。そのため、浮遊粒子の上下取付円板50内への吸い込みが抑制され、噴霧盤34から噴霧される液滴に浮遊粒子が付着する事態が抑制される。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを備え、前記上下取付円板の前記上部取付円板の中央部には貫通孔が形成されており、且つ、前記上部取付円板の上面の前記貫通孔よりも外周縁側には柱状部材が立設されている、噴霧盤。

IPC (3件)：

B05B 3/02 , B01D 1/20 , F26B 3/12

FI (3件)：

B05B3/02 H , B01D1/20 , F26B3/12

Fターム (26件)：

3L113AA07 , 3L113AB03 , 3L113AC48 , 3L113AC67 , 3L113AC83 , 3L113BA36 , 3L113DA04 , 3L113DA24 , 4D076AA02 , 4D076AA14 , 4D076AA24 , 4D076BA25 , 4D076CD02 , 4D076CD03 , 4D076CD12 , 4D076CD21 , 4D076FA03 , 4D076FA04 , 4D076FA20 , 4D076FA22 , 4D076HA03 , 4F033PA08 , 4F033PB01 , 4F033PB15 , 4F033PB22 , 4F033PD01

引用特許：

出願人引用 (1件)

噴霧盤、噴霧装置および噴霧乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-290873 出願人：大川原化工機株式会社

審査官引用 (2件)

特許第4126294号
噴霧盤、噴霧装置および噴霧乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-290873 出願人：大川原化工機株式会社

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