特許

J-GLOBAL ID：200903058525867017

荷電粒子ビーム露光方法及び装置

発明者： 佐藤 高雅 ,  大饗 義久 ,  荒井 総一郎 ,  宮沢 憲一 ,  安田 洋
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-015463
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213301
出願日： 1995年02月01日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】ブランキングアパーチャアレイを用い、隣合う領域の繋ぎ部分の転写パターンを緩やかに変化させる。【構成】ブランキングアパーチャアレイ30の1行分のビットマップデータがバッファメモリ41から出力され、アンドゲート431〜43nの一方の入力端に供給される。アンドゲート431〜43nの他方の入力端には、循環シフトレジスタ461〜46nから変調データが供給される。帯状領域の非変調部では、変調データが全て‘1’となり、かつ、循環シフトレジスタ461〜46nはシフトされない。帯状領域の変調部では、循環シフトレジスタ461〜46nがシフトされ、その出力によりバッファメモリ41の出力がアンドゲート431〜43nにおいて変調される。帯状領域の一端側と他端側の非変調部では、循環シフトレジスタ461〜46nのシフト方向が互いに逆になる。

請求項（抜粋）：

基板に複数の開口が格子状に形成され該基板の各開口の縁部に一対の電極が形成されたブランキングアパーチャアレイを、荷電粒子ビームの光路中に配置し、パターンのビットマップデータに基づいて各該一対の電極間に電圧を印加するかしないかにより該開口を通った荷電粒子ビームを露光対象物上に照射させないかさせるかを制御する荷電粒子ビーム露光方法において、偏向器により該荷電粒子ビームを第1直線方向へ走査して形成される第1帯状領域の一端部が、該偏向器により該荷電粒子ビームを該第1直線方向へ走査して形成され該第1直線方向に隣合う第2帯状領域の一端部と重なるようにし、かつ、両一端部に対応した該ビットマップデータが互いに同じになるようにし、該第1帯状領域の該一端部に対応した該ビットマップデータを、該ビットマップデータの各ビットを有効/無効にする第1変調データで変調し、該第2帯状領域の該一端部に対応した該ビットマップデータを、該ビットマップデータの各ビットを有効/無効にする第2変調データで変調し、該第1変調データと該第2変調データとの対応するビットが、略相補データになるようにし、かつ、該第1変調データ及び該第2変調データの該直線方向と直角な方向の線上に対応したビットの値の合計値が該直線方向に対応した方向に沿って略増加し又は略減少するようにすることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

FI (3件)：

H01L 21/30 541 C ,  H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 551

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電子ビーム露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-051808   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-196410