石英系ガラス導波路及びその製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-181183
公開番号（公開出願番号）：特開平8-043654
出願日： 1994年08月02日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】第1クラッド層形成後のSi基板の反りを極めて小さくする。【構成】まず、Si基板1上に第1クラッド層埋込み用の光学特性を満足するに必要な幅W2 及び高さHをもつ溝7を形成し、溝7内にn0 の屈折率を有するSiO2 ガラスからなる第1クラッド層2を埋め込む。次に第1クラッド層2を含めたSi基板1上の全面にn1 (>n0 )の屈折率を有するコアガラス膜3を形成する。その後、ホトリソグラフィ及び反応性イオンエッチングを用いて断面略矩形のコア導波路4を第1クラッド層2上に形成させる。さらに、コア導波路4上を含めたSi基板2の全面に火炎堆積法によりSiO2 -B2 O3 -P2 O5系の多孔質ガラス層5を形成させる。そして、これを焼結することで透明ガラス化して、第2クラッド層6としてn0 の屈折率を有するSiO2 -B2 O3 -P2 O5 系ガラスを形成する。

請求項（抜粋）：

Si基板と、該Si基板内に、光学特性を満足するに必要な幅及び高さをもつように埋め込まれた屈折率n0 の第1クラッド層と、該第1クラッド層の上に設けられた屈折率n1 (>n0 )の断面略矩形のコア導波路と、該コア導波路を覆う屈折率n0 の第2クラッド層とを備えた石英系ガラス導波路。

IPC (2件)：

G02B 6/13 , G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 N

引用特許：

審査官引用 (4件)

特表平6-501570
特開平2-211406
特開昭63-131104

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