パターン寸法測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宮井暎夫 , 伊藤誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-023292
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235497
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】測長SEMにてパターンの寸法を測定する際、ステージ上への半導体基板設置、およびステッパによる露光時のアライメント回転成分を補正する。【解決手段】パターン15上に電子線20をスキャンさせる第1のスキャンを行い、第1の二次電子信号を得るステップと、第1のスキャンの位置から一定の距離をおいたパターン15上に第1のスキャンと同方向に電子線21をスキャンさせる第2のスキャンを行い、第2の二次電子信号を得るステップと、第1および第2の二次電子信号の相対位置ずれと第1および第2のスキャン間隔から、電子線のスキャン方向のパターン15に固定された所定の方向からの回転角度θpsを測定するステップと、回転角度θpsに基づき、電子線のスキャン方向を所定の方向に補正した後、パターン15の寸法を測定するステップとを含む。これにより、パターン15の正確な寸法を測定することができる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたパターン上に電子線をスキャンさせ、前記パターンからの二次電子信号を検出することにより前記パターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法であって、前記パターン上に電子線をスキャンさせる第1のスキャンを行い、第1の二次電子信号を得るステップと、前記第1のスキャンの位置から一定の距離をおいた前記パターン上に前記第1のスキャンと同方向に電子線をスキャンさせる第2のスキャンを行い、第2の二次電子信号を得るステップと、前記第1および第2の二次電子信号の相対位置ずれと前記第1および第2のスキャン間隔から、前記電子線のスキャン方向の前記パターンに固定された所定の方向からの回転角度を測定するステップと、前記回転角度に基づき、前記電子線のスキャン方向を前記所定の方向に補正した後、前記パターンの寸法を測定するステップとを含むパターン寸法測定方法。

IPC (2件)：

H01L21/66 , G01B15/00

FI (2件)：

H01L21/66 P , G01B15/00 B

Fターム (10件)：

2F067AA26 , 2F067CC15 , 2F067HH06 , 2F067KK04 , 2F067QQ12 , 2F067RR24 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA70 , 4M106DH60

引用特許：

審査官引用 (5件)

ウェーハパターン装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-298404 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-140609
特開昭62-194404

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