特許
J-GLOBAL ID：200903058595154719

複合材およびそれを用いたパターン形成体

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について

, 
山本 学

山本 学 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281521
公開番号（公開出願番号）：特開2001-109103
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 パターン形成体を形成するに当たり、エネルギー照射後の現像・洗浄等の後工程が特に必要なく、かつ高精細なパターンを形成することが可能な複合材およびこの複合材を用いて形成されるパターン形成体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基材と、この基材の少なくとも一方の表面に形成され、少なくともフッ素および光触媒を含む光触媒含有層とからなる複合材であって、上記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用により上記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする複合材を提供することにより上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
基材と、この基材の少なくとも一方の表面に形成され、少なくともフッ素および光触媒を含む光触媒含有層とからなる複合材であって、前記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触媒含有層が形成されていることを特徴とする複合材。
IPC (5件)：
G03C 1/73 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101 ,  G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02
FI (5件)：
G03C 1/73 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 27/00 101 ,  G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02 J
Fターム (56件)：
2H048BA28 ,  2H048BA29 ,  2H048BA47 ,  2H123AE00 ,  2H123AE11 ,  2H123BA00 ,  2H123BA01 ,  2H123BB00 ,  2H123BB02 ,  4F100AA17B ,  4F100AA21B ,  4F100AA23B ,  4F100AA25B ,  4F100AA28B ,  4F100AA34B ,  4F100AG00 ,  4F100AH05B ,  4F100AK52B ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CA23B ,  4F100EH462 ,  4F100GB90 ,  4F100JL08B ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BD15A ,  4G069BD15B ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18Y ,  4G069ED01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FC08
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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