特許

J-GLOBAL ID：200903058616767821

テトラキス(ジアルコキシシリル)ベンゼンとその製造方法

発明者： 島田 茂 ,  田中 正人 ,  林 輝幸
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221611
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048889
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 ケイ素上に水素と、アルコキシ基を有する、テトラキス(ジアルコキシシリル)ベンゼンを提供する。【解決手段】 一般式(2)【化1】で表されるテトラキス[ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)シリル]ベンゼン類を、アルコール類を用いて、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基をアルコキシ基に置換することにより、一般式(1)【化2】(式中、Rはアルキル基を表す。)で表されるテトラキス(ジアルコキシシリル)ベンゼンを製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、Rは、アルキル基を表す。)で表される、テトラキス(ジアルコキシシリル)ベンゼン。

Fターム (10件)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ07 ,  4H049VQ21 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR42 ,  4H049VS07 ,  4H049VS20 ,  4H049VW02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 含ケイ素5環性化合物、含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-324906   出願人：工業技術院長
• レジスト組成物及びそれを用いるパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-063341   出願人：富士通株式会社
• 特開昭59-011374
  
• 特開昭49-042615