露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-203276
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050953
出願日： 1995年08月09日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】露光フィールド(ショット領域)の大きさの異なる複数の露光装置を用いてミックス・アンド・マッチ方式で露光を行う場合に、第1層目のショット配列に直交度誤差が存在する際の重ね合わせ誤差を低減する。【解決手段】第1の露光装置の露光フィールドに対して、第2の露光装置の露光フィールドの長さが3/2倍である場合、先ず第1の露光装置において、レチクルRA及びウエハWをそれぞれ通常の状態に対して90°回転させた状態で、ウエハW上の第1層目のショット領域21A〜21IにそれぞれレチクルRAのパターン像を露光する。その後、第2の露光装置で露光を行う際に、レチクル及びウエハWの回転角を通常の方向に戻す。

請求項（抜粋）：

所定形状の第1の露光フィールドを有する第1の露光装置を用いて感光基板上に第1のマスクパターンを所定配列で露光し、前記第1の露光フィールドに比べて所定方向に長さの異なる第2の露光フィールドを有する第2の露光装置を用いて、前記感光基板上に第2のマスクパターンを重ねて露光する露光方法において、前記第1の露光装置を用いて前記第1のマスクパターンを前記感光基板上に露光する際に、前記感光基板上でそれぞれ前記第1のマスクパターンが露光される複数のショット領域の配列を、前記第2の露光フィールドと長さが異なる方向に対応する方向に沿って設定したことを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 514 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-228309
特開平3-230513
特開昭62-090931

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