基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-233318
公開番号（公開出願番号）：特開平8-097180
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】基板処理装置を高い処理能力を維持しつつ狭い設置面積に設置できるようにする。【構成】基板洗浄装置1は、複数の基板Wを複数の処理液で連続して洗浄する装置であって、基板搬送ロボット7と、複数の処理部10を有する基板洗浄・乾燥部5とを備えている。基板搬送ロボット7は、基板Wを水平方向に回転搬送する。基板洗浄・乾燥部5の処理部10は、基板搬送ロボット7の周囲に配置されており、複数の基板Wを浸漬し得る処理槽17を有している。この処理槽17では、複数の処理液による処理を連続して行うことができる。

請求項（抜粋）：

複数の基板を複数の処理液で連続して処理する基板処理装置であって、前記複数の基板を横方向に回転搬送する基板搬送手段と、前記複数の基板を浸漬し得る処理槽を有し、前記複数の処理液による処理を前記処理槽内で連続して行い得る、前記基板搬送手段の周囲に配置された複数の基板処理部と、を備えた基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 351 , H01L 21/304 , H01L 21/304 341 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (4件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-285163 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-187279
特開平4-187279

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