特許
J-GLOBAL ID：200903058856062353

含フッ素樹脂、感光性樹脂組成物及びフォトレジスト

発明者：
高橋 秀幸

高橋 秀幸 について

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石関 健二

石関 健二 について

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白川 大祐

白川 大祐 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276815
公開番号（公開出願番号）：特開2005-036160
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリフルオロエーテル構造からなるRf基(a)と、酸性基(b)とを有する含フッ素樹脂。該含フッ素樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、酸架橋剤(C)とを含有する感光性樹脂組成物。該含フッ素樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、酸架橋剤(C)と、アルカリ可溶性樹脂(D)とを含有する感光性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式1で表されるポリフルオロエーテル構造からなるRf基(a)と、酸性基(b)とを有し、酸価が1〜300mgKOH/gであることを特徴とする含フッ素樹脂。 -(X-O)n-Y ・・・式1 式1中、Xは、炭素数1〜10の2価飽和炭化水素基又は炭素数1〜10のフルオロ化された2価飽和炭化水素基であって、nで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、 Yは、水素原子(Yに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る)、炭素数1〜20の1価飽和炭化水素基又は炭素数1〜20のフルオロ化された1価飽和炭化水素基を示し、 nは2〜50の整数を示す。 ただし、式1におけるフッ素原子の総数は2以上である。
IPC (4件)：
C08F220/10 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027
FI (4件)：
C08F220/10 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (37件)：
2H025AA00 ,  2H025AA04 ,  2H025AA13 ,  2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4J100AB07Q ,  4J100AE18Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AP01Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA37P ,  4J100BA38P ,  4J100BA56Q ,  4J100BA59P ,  4J100BB12P ,  4J100BB13P ,  4J100BB18P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
  • 特開昭58-083011
  • 特開昭58-083011

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