特許

J-GLOBAL ID：200903095336941250

化学増幅型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  橋本 和彦 ,  宮 芳子 ,  井上 博貴
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332641
公開番号（公開出願番号）：特開2002-006501
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にF2 エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、Qは水素、メチル又は炭素数1〜4のフルオロアルキルを表し、R1はハロゲン、水酸基もしくは脂環式環で置換されていても良い炭素数1〜14のアルキル、又はハロゲン、水酸基、アルキル基で置換されていても良い脂環式環もしくはラクトン環を表し、Q、R1のうちの少なくとも一方は、少なくとも1個のフッ素原子を有する。)で示されるモノマーから導かれる重合単位を有する化学増幅型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、Qは水素、メチル又は炭素数1〜4のフルオロアルキルを表し、R1はハロゲン、水酸基もしくは脂環式環で置換されていても良い炭素数1〜14のアルキル、又はハロゲン、水酸基、アルキル基で置換されていても良い脂環式環もしくはラクトン環を表し、Q、R1のうちの少なくとも一方は、少なくとも1個のフッ素原子を有する。)で示されるモノマーから導かれる重合単位を有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (14件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F222/04 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/16 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (14件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F222/04 ,  C08F232/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/16 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 B ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (60件)：

2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF08 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG081 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EU186 ,  4J002EV166 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002EW046 ,  4J002EY016 ,  4J002EY026 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07S ,  4J100AK31R ,  4J100AK32R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL24P ,  4J100AL26P ,  4J100AR11R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA04S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA16R ,  4J100BA20R ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04R ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC55R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (9件)

• 陰画調レジスト像の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-022341   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-040647   出願人：松下電器産業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191559   出願人：住友化学工業株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-065598   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-239463   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-131948   出願人：ジェイエスアール株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-167810   出願人：株式会社東芝
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-197475   出願人：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-338701   出願人：セントラル硝子株式会社