電鋳加工による多孔質成形型の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤強 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-223888
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065777
出願日： 1992年08月24日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：

【要約】【目的】電鋳加工によって母型の表面に金属を多孔状に電着させて多孔質成形型を製造する方法にあって、電着金属層の多孔質化を十分に図りつつ、電鋳加工の中断,再開を可能とする。【構成】電鋳加工を行うにあたっては、電鋳槽8(電解液9)内にニッケル電極10、及び成形品と同一外形を有する母型1を配置し、それらの間に直流電流を流す。この際、電解液9にイオン移動度の高い陽イオンと陰イオンとを組合わせた電解質例えば臭化水素酸を添加しておく。すると、母型1の表面のポーラス化用処理の有無に拘らず母型1表面において多量の水素ガスの微細な気泡が発生するようになり、ニッケルが、その気泡包み込むように延びながら析出し、もって十分に多孔状とされた多孔質成形型を得ることができる。

請求項（抜粋）：

成形品と同一外形を有する母型の表面に、電鋳加工によって金属を多孔状に電着させた後、その電着層を前記母型から離型することにより多孔質成形型を得るようにした多孔質成形型の製造方法において、前記電鋳加工を行うための電解液に、イオン移動度の高い陽イオンと陰イオンとを組合わせた電解質からなる添加剤を添加するようにしたことを特徴とする電鋳加工による多孔質成形型の製造方法。

IPC (5件)：

C25D 1/00 361 , C25D 1/00 311 , B29C 33/10 , B29C 33/38 , C25D 1/10

引用特許：

審査官引用 (6件)

特公平2-014434
特開昭51-011025
特公昭58-024519

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