特許
J-GLOBAL ID:200903058953608018
水性毛髪洗浄剤
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
, 的場 ひろみ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-135221
公開番号(公開出願番号):特開2008-001684
出願日: 2007年05月22日
公開日(公表日): 2008年01月10日
要約:
【課題】化学処理により損傷した毛髪においても、洗髪時にはすばやい泡立ちと滑りの良い泡質を有し、すすぎ時には滑らかな感触を有し、かつ、仕上がりの髪にツヤとまとまりを与え、保存安定性に優れた水性毛髪洗浄剤の提供。【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C)を含有する水性毛髪洗浄剤。(A)アニオン界面活性剤(ラウリルエーテル硫酸塩など)(B)カチオン化タラガム(C)式(1)で表されるアミノ変性シリコーン中、R1はそれぞれ独立して、1価の炭化水素基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を示し、R2はそれぞれ独立して1価の炭化水素基を示し、R3は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示し、R4は窒素含有基を示し、aは25〜1000の数を示し、bは1〜200の数を示す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
次の成分(A)、(B)及び(C)を含有する水性毛髪洗浄剤。
(A)アニオン界面活性剤
(B)カチオン化タラガム
(C)一般式(1)又は(4)で表されるアミノ変性シリコーン
IPC (6件):
A61K 8/898
, A61Q 5/02
, A61K 8/73
, A61K 8/34
, A61K 8/891
, A61Q 5/12
FI (6件):
A61K8/898
, A61Q5/02
, A61K8/73
, A61K8/34
, A61K8/891
, A61Q5/12
Fターム (40件):
4C083AA071
, 4C083AA112
, 4C083AA122
, 4C083AB032
, 4C083AB332
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC152
, 4C083AC171
, 4C083AC172
, 4C083AC182
, 4C083AC302
, 4C083AC392
, 4C083AC532
, 4C083AC542
, 4C083AC642
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AD042
, 4C083AD131
, 4C083AD132
, 4C083AD151
, 4C083AD152
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD452
, 4C083BB05
, 4C083CC38
, 4C083CC39
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD31
, 4C083EE01
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE21
, 4C083EE28
, 4C083EE29
, 4C083FF05
引用特許:
出願人引用 (12件)
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-375905
出願人:サンスター株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-088540
出願人:株式会社カネボウ化粧品
-
毛髪用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-029987
出願人:株式会社資生堂
-
毛髪洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-232734
出願人:花王株式会社
-
化粧料用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-176394
出願人:東邦化学工業株式会社
-
ポリオルガノシロキサンを含む化粧品組成物及びその使用
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-517348
出願人:ロディア・シミ
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-186580
出願人:株式会社コーセー
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-384621
出願人:花王株式会社
-
洗浄料組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-047100
出願人:株式会社資生堂
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-313559
出願人:花王株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-189128
出願人:花王株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-338653
出願人:花王株式会社
全件表示
審査官引用 (11件)
-
毛髪洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-232734
出願人:花王株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-375905
出願人:サンスター株式会社
-
化粧料用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-176394
出願人:東邦化学工業株式会社
-
ポリオルガノシロキサンを含む化粧品組成物及びその使用
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-517348
出願人:ロディア・シミ
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-186580
出願人:株式会社コーセー
-
毛髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-384621
出願人:花王株式会社
-
洗浄料組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-047100
出願人:株式会社資生堂
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-313559
出願人:花王株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-189128
出願人:花王株式会社
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-338653
出願人:花王株式会社
-
毛髪用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-029987
出願人:株式会社資生堂
全件表示
前のページに戻る