特許

J-GLOBAL ID：200903059021719870

パターン化された透明導電膜およびその製造方法

発明者： 石川 真章 ,  吉川 逸治
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (1件)： 土橋 皓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081668
公開番号（公開出願番号）：特開平11-278869
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 優れた透明性と高い導電性を有するパターン化された透明導電膜および酸エッチングを行わず、安全で、工程数が少なく、微細なパターンを形成できるパターン化された透明導電膜の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有するパターン化された透明導電膜と、インジウム化合物と、錫化合物と、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上を含む化合物と、感光性樹脂とを含有する塗布液を用いて形成したパターン化された透明導電膜の製造方法を構成する。

請求項（抜粋）：

Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有することを特徴とするパターン化された透明導電膜。

IPC (6件)：

C03C 17/27 ,  B05D 1/32 ,  B32B 27/18 ,  C01G 15/00 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503

FI (6件)：

C03C 17/27 ,  B05D 1/32 Z ,  B32B 27/18 J ,  C01G 15/00 B ,  H01B 5/14 B ,  H01B 13/00 503 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-198602
  
• 透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-255783   出願人：大日本印刷株式会社