特許
J-GLOBAL ID：200903059021719870
パターン化された透明導電膜およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土橋 皓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081668
公開番号（公開出願番号）：特開平11-278869
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】 優れた透明性と高い導電性を有するパターン化された透明導電膜および酸エッチングを行わず、安全で、工程数が少なく、微細なパターンを形成できるパターン化された透明導電膜の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有するパターン化された透明導電膜と、インジウム化合物と、錫化合物と、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上を含む化合物と、感光性樹脂とを含有する塗布液を用いて形成したパターン化された透明導電膜の製造方法を構成する。
請求項（抜粋）：
Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有することを特徴とするパターン化された透明導電膜。
IPC (6件)：
C03C 17/27
, B05D 1/32
, B32B 27/18
, C01G 15/00
, H01B 5/14
, H01B 13/00 503
C03C 17/27
, B05D 1/32 Z
, B32B 27/18 J
, C01G 15/00 B
, H01B 5/14 B
, H01B 13/00 503 B
