現像装置および現像方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-134585
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349723
出願日： 1993年06月04日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】この発明は、最適な濃度の現像液をフォトレジスト膜に供給するとともに、現像されたレジスト像に寸法のばらつきが発生することを防止する。【構成】現像液タンク13に高濃度現像液15が入れられ、この高濃度現像液15はレギュレ-タ16、フィルタ17、第1のポンプ18を介して混合槽19と接続されている。前記混合槽19は第2のポンプ23を介して第2の純水ライン24b と接続されている。前記混合槽19は第1の現像液ライン25a により熱交換器26と接続され、この熱交換器26は第2の現像液ライン25b により現像ノズル27と接続されている。前記第2の現像液ライン25b は第8のバルブ12h を介して第3の現像液ライン25cと接続され、この現像液ライン25c は第2の濃度センサ28を介して混合槽19と接続されている。前述したような現像装置によって、混合槽19内で純水と高濃度現像液15を混合することにより、最適な濃度の現像液をフォトレジスト膜に供給できる。

請求項（抜粋）：

高濃度現像液が混合槽に供給される第1の供給手段と、前記高濃度現像液を希釈する希釈溶液が前記混合槽に供給される第2の供給手段と、前記混合槽において前記高濃度現像液と前記希釈溶液とが混合された現像液を所定の濃度に調整する調整手段と、を具備することを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭64-027624
特開昭62-081026
現像方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-079577 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社

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