特許
J-GLOBAL ID:200903059072624246

ニトリドシリケート系化合物及びその製造方法、並びにニトリドシリケート系蛍光体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-031679
公開番号(公開出願番号):特開2007-210831
出願日: 2006年02月08日
公開日(公表日): 2007年08月23日
要約:
【課題】単一結晶相でありかつ高品質であるニトリドシリケート系化合物を、安価に、かつ再現性よく製造できるニトリドシリケート系化合物の製造方法、並びに、そのニトリドシリケート系化合物を提供する。【解決手段】本発明のニトリドシリケート系化合物2の製造方法は、アルカリ土類金属M1とガリウムとの複合酸化物(但し、M1は、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも1つの元素を示す。)と、珪素化合物と、炭素とを含む原料を、窒化性ガス雰囲気中で反応させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
アルカリ土類金属M1とガリウムとの複合酸化物(但し、前記M1は、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも1つの元素を示す。)と、珪素化合物と、炭素とを含む原料を、窒化性ガス雰囲気中で反応させることを特徴とするニトリドシリケート系化合物の製造方法。
IPC (4件):
C01B 21/082 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/64 ,  C09K 11/62
FI (5件):
C01B21/082 C ,  C09K11/08 B ,  C09K11/64 ,  C09K11/62 ,  C01B21/082 E
Fターム (15件):
4H001CF02 ,  4H001XA07 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA13 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA31 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001YA25 ,  4H001YA58 ,  4H001YA59 ,  4H001YA63 ,  4H001YA65
引用特許:
出願人引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る