検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-197313
公開番号（公開出願番号）：特開平11-037957
出願日： 1997年07月23日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】エネルギービームを用いた高精度のパターン検査を高速に行う。【解決手段】エネルギービームをマスク等の検査対象に照射する手段と、検査対象保持手段と、検査対象表面より放出された電子を拡大結像し、検出する手段と、取り込まれたデータを基礎データと比較する手段とから構成され、エネルギービームを検査対象に照射し、検査対象表面より放出された電子の拡大像を用いてパターンの欠陥等の検査を行う。

請求項（抜粋）：

エネルギービーム源と、発生したエネルギービームを検査対象の最小寸法に比して十分大きな径を有した面ビームとして検査対象に照射する手段と、検査対象の保持手段と、エネルギービーム照射時に検査対象から放出される電子を用いて検査対象の拡大像を得る手段と、その拡大像を検出する手段と、該検出された拡大像を用いて検査対象を検査する手段とを有することを特徴とする検査装置。

IPC (7件)：

G01N 23/20 , G01N 23/225 , G01R 31/302 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (7件)：

G01N 23/20 , G01N 23/225 , G03F 1/08 S , G03F 7/20 521 , H01L 21/66 J , G01R 31/28 L , H01L 21/30 502 W

引用特許：

審査官引用 (4件)

直接写像型反射電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-095180 出願人：日本電子株式会社
ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-041346 出願人：株式会社東芝
特開平4-072600

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