処理装置、プラズマ処理装置及びこれらのクリーニング方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-036176
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291704
出願日： 1994年07月07日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】処理容器内壁等のクリーニングを効率的に行なうことが可能な処理装置を提供する。【解決手段】気密な処理容器4内においてサセプタ26上に載置された被処理体Wに対して処理を施す処理装置において、前記サセプタと対向させて前記処理容器の内側或いは外側にアンテナ部材6を配置し、前記アンテナ部材に接続されるプラズマ発生用の高周波電源8を設け、前記処理容器のクリーニング時に前記アンテナ部材の一端に前記周波数電源からの高周波電圧を印加すると共に前記アンテナ部材の他端は開放端にする。これにより、処理容器内壁等のクリーニングを効率的に行なう。

請求項（抜粋）：

気密な処理容器内においてサセプタ上に載置された被処理体に対して処理を施す処理装置において、前記サセプタと対向させて前記処理容器の内側或いは外側にアンテナ部材を配置し、前記アンテナ部材に接続されるプラズマ発生用の高周波電源を設け、前記処理容器のクリーニング時に前記アンテナ部材の一端に前記周波数電源からの高周波電圧を印加すると共に前記アンテナ部材の他端は開放端にすることを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , C23C 16/44 , C23C 16/507 , H05H 1/46

FI (5件)：

B01J 19/08 H , C23C 16/44 J , C23C 16/507 , H05H 1/46 L , H01L 21/302 N

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-122077
特開平1-110734
特開平1-100925

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審査官引用 (5件)

特開平2-122077
特開平1-110734
特開平1-100925

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