特許
J-GLOBAL ID:200903059142002329

磁気記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 舘野 千惠子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-016899
公開番号(公開出願番号):特開2006-209822
出願日: 2005年01月25日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】ウェット・オン・ドライ方式により、上層の磁性層を50nm以下の薄層に形成する場合において、磁性塗料の乾燥を緩和し、優れた配向効率を実現し、高い角形比を有する磁気記録媒体を作製する。【解決手段】支持体1上に、下層非磁性層2と、膜厚50nm以下の磁性層3とが積層形成されている磁気記録媒体10を製造する方法において、磁性層3の形成工程の前工程として、下層非磁性層2上に溶剤層を塗布形成し、磁性層の乾燥速度を抑制する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
支持体上に、下層非磁性層と、膜厚50nm以下の磁性層とが積層形成されている磁気記録媒体の製造方法であって、 前記支持体上に、少なくとも結合剤樹脂と非磁性顔料とを含有する非磁性塗料を塗布し、乾燥処理を施し、下層非磁性層を形成する工程と、 前記下層非磁性層上に、溶剤を塗布して溶剤層を形成する工程と、 前記溶剤層上に、少なくとも結合剤樹脂と、磁性粉末とを含有する磁性塗料を塗布し、磁性層を形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件):
G11B 5/842 ,  G11B 5/738
FI (2件):
G11B5/842 Z ,  G11B5/738
Fターム (7件):
5D006BA19 ,  5D006CA01 ,  5D006CA05 ,  5D006CA06 ,  5D112AA03 ,  5D112AA06 ,  5D112BD01
引用特許:
出願人引用 (4件)
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