特許
J-GLOBAL ID：200903059149126805

高輝度・高出力微小X線発生源とそれを用いた非破壊検査装置

発明者：
望月 孝晏

望月 孝晏 について

, 
宮本 修治

宮本 修治 について


出願人/特許権者：
科学技術振興事業団

科学技術振興事業団 について


代理人 (1件)： 山口 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-187177
公開番号（公開出願番号）：特開2004-028845
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】微小なスポットで且つ高輝度を実現するX線発生源と、それを用いた高密度多層プリント基板等の非破壊検査装置を提供する。【解決手段】X線発生源は、真空ダクト6の底部にターゲット15が配置され、ターゲット15はX線発生効率の高い重元素のタングステン(W)又はモリブデン(Mo)でなる単一の柱状の金属ワイヤで形成されている。当該ターゲットは長さと断面の最大径の比が1.5以上の柱状とし、重元素のターゲット15は冷却と保持を兼ねて、ベリリウム(Be)又はカーボン(C)の軽元素からなる基板8に埋設されている。更に、ターゲット15と基板8を囲む状態で冷却装置9を配置し、冷却装置9は冷媒18を密封したヒートポンプ構造17、又は冷媒を流体として基板8を取り囲む流路に流す構造とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
電子ビームを金属ターゲットに照射し、ターゲットの電子ビームとは反対側からX線を発生させる透過型X線発生源に用いられ、当該ターゲットを柱状とし、当該ターゲットの片側断面に、この断面より大きな径を有する電子ビームを照射してX線を発生させる高輝度・高出力微小X線発生源。
IPC (4件)：
G21K5/08 ,  G01N23/04 ,  G21K5/02 ,  H05G1/52
FI (4件)：
G21K5/08 X ,  G01N23/04 ,  G21K5/02 X ,  H05G1/52 A
Fターム (15件)：
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001JA02 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4C092AA01 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092BD05 ,  4C092BD11 ,  4C092BD16 ,  4C092BD17 ,  4C092BD19
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • マイクロX線ターゲット
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-203412   出願人：石川島播磨重工業株式会社
  • 特開平3-274500
  • X線ターゲット
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-028647   出願人：山田廣成
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