特許

J-GLOBAL ID：200903059189379684

回転照射治療装置

発明者： 大谷 利宏
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (4件)： 大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-298116
公開番号（公開出願番号）：特開2009-119123
出願日： 2007年11月16日
公開日（公表日）： 2009年06月04日
要約：

【課題】回転照射治療装置を構成する回転リングを一円一体構造物とした場合に、回転リングのコストが高くなり、納期が長くなるという問題があった。【解決手段】中心角度が180°である二つの円弧状部材3a、3bを結合して回転リング3を形成し、回転リング3を中心軸の周りに回転可能に配置し、ローラー4により回転リング3の隣接する結合部18間に当接して回転リング3を支持、駆動し、回転リング3にフレームを介して粒子線照射ヘッド9a、9bが取り付けられ、中心軸に向って粒子線を照射するように回転照射治療装置を構成した。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

複数の円弧状部材を結合して形成され、中心軸の周りに回転可能に配置された回転リング、上記回転リングの隣接する結合部間に当接して上記回転リングを支持、駆動するローラー、上記回転リングにフレームを介して取り付けられ、上記中心軸に向って粒子線を照射する粒子線照射ヘッドを備えたことを特徴とする回転照射治療装置。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 T ,  A61N5/10 H

Fターム (8件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE03 ,  4C082AG12 ,  4C082AG53 ,  4C082AG54 ,  4C082AJ16 ,  4C082AL07

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 医療用荷電粒子照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-052708   出願人：株式会社日立製作所
• 回転照射治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-024243   出願人：三菱電機株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-010876   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• 回転照射治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-024243   出願人：三菱電機株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-010876   出願人：東京エレクトロン株式会社