特許
J-GLOBAL ID：200903059203785143

熱処理装置および熱処理方法

発明者：
江嶋 睦仁

江嶋 睦仁 について

, 
坂本 浩一

坂本 浩一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-222051
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043226
出願日： 2000年07月24日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：
【要約】【課題】 被処理体の面内温度差を低減し、スリップを防止する。【解決手段】 複数枚の被処理体wを高さ方向に所定間隔で収容する処理容器2の周囲に被処理体wを周縁部から加熱昇温させる第1のヒータ10を設け、少なくも前記処理容器2内に被処理体wを中心部から加熱昇温させる第2のヒータ20を設けてなる。
請求項（抜粋）：
複数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔で収容する処理容器の周囲に被処理体を周縁部から加熱昇温させる第1のヒータを設け、少なくとも前記処理室内に被処理体を中心部から加熱昇温させる第2のヒータを設けてなることを特徴とする熱処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  F27D 11/02 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  F27B 5/14
FI (6件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  F27D 11/02 B ,  H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/31 E ,  F27B 5/14
Fターム (30件)：
4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA05 ,  4K030KA04 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  4K061AA01 ,  4K061BA11 ,  4K061CA08 ,  4K061DA05 ,  4K063AA05 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063FA04 ,  4K063FA07 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AF03 ,  5F045BB13 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EK06 ,  5F045EK07 ,  5F045EK22 ,  5F045EM08
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 熱処理装置及び処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-234119
審査官引用 (2件)
  • 熱処理装置及び処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-234119

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