特許
J-GLOBAL ID：200903059253261986

金属の製造方法

発明者：
武田 光生

武田 光生 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-319115
公開番号（公開出願番号）：特開2004-149900
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】目的とする金属を、粒子径の小さい金属粒子が高濃度で分散した分散液として、もしくは、導電性薄膜などとして適した金属膜として、安価に得ることができる、金属の製造方法を提供する。【解決手段】Pt、Pd、Ru、Rh、Ir、Fe、Co、Ni、Cu、およびAgからなる金属元素群(I)より選ばれる少なくとも1種の金属を生成させる方法であって、前記金属の元素を含む金属カルボン酸塩とアルコールとを出発原料とするか、または、前記金属の元素を含む金属アルコキシ基含有化合物とカルボキシル基含有化合物とを出発原料として、還元性物質の存在下で金属を生成させることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
Pt、Pd、Ru、Rh、Ir、Fe、Co、Ni、Cu、およびAgからなる金属元素群(I)より選ばれる少なくとも1種の金属を生成させる方法であって、 前記金属の元素を含む金属カルボン酸塩とアルコールとを出発原料とするか、または、前記金属の元素を含む金属アルコキシ基含有化合物とカルボキシル基含有化合物とを出発原料として、還元性物質の存在下で金属を生成させる、 ことを特徴とする金属の製造方法。
IPC (6件)：
C22B3/44 ,  B22F9/22 ,  C22B11/00 ,  C22B15/00 ,  C22B23/00 ,  C23C20/04
FI (6件)：
C22B3/00 T ,  B22F9/22 G ,  C23C20/04 ,  C22B11/04 ,  C22B15/12 ,  C22B23/04
Fターム (46件)：
4K001AA01 ,  4K001AA07 ,  4K001AA08 ,  4K001AA09 ,  4K001AA10 ,  4K001AA15 ,  4K001AA16 ,  4K001AA17 ,  4K001AA19 ,  4K001AA21 ,  4K001AA24 ,  4K001AA28 ,  4K001AA29 ,  4K001AA41 ,  4K001AA42 ,  4K001BA24 ,  4K001DB11 ,  4K001DB14 ,  4K001DB17 ,  4K017AA01 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017CA08 ,  4K017DA01 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017EK06 ,  4K017EK07 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07 ,  4K022AA03 ,  4K022AA04 ,  4K022AA16 ,  4K022BA01 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA33 ,  4K022CA13 ,  4K022DA03 ,  4K022DB04 ,  4K022DB06 ,  4K022DB24
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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