特許
J-GLOBAL ID：200903059257428117
薄膜、薄膜の製造方法、薄膜製造装置、有機EL装置、有機EL装置の製造方法、有機EL装置の製造装置、及び電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079508
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282244
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：
【要約】【課題】 膜形成成分と溶媒を含有する溶液から薄膜層を形成した後、この溶媒の蒸気を後工程に持ち込まないようにする【解決手段】 膜形成成分と溶媒を含有する溶液から薄膜を形成し、この薄膜の表面の近傍の雰囲気を常温で1Pa以下としてこの雰囲気中に前記溶媒分子が実質的に存在しない状態となるまで前記薄膜から溶媒分子を除去する。
請求項（抜粋）：
膜形成成分と溶媒を含有する溶液から液滴を塗布して薄膜を形成し、前記薄膜の近傍の雰囲気中に溶媒分子が実質的に存在しない状態となるまで前記溶媒分子を除去することを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
3K007AB11
, 3K007AB13
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
