特許
J-GLOBAL ID:200903059288970939

バイオマス製造および燃料気体中の汚染物質の軽減のためのフォトバイオリアクターおよびプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-502703
公開番号(公開出願番号):特表2005-533632
出願日: 2003年05月13日
公開日(公表日): 2005年11月10日
要約:
本発明の特定の実施形態および局面は、少なくとも1種の光合成生物を含有する液体媒体(108)を収容するように設計れたフォトバイオリアクター装置(100)、ならびに特定の量の所望でない汚染物質を気体ストリーム(608)から少なくとも部分的に除去し得る気体処理プロセスおよびシステムの一部としての、フォトバイオリアクター装置(100)の使用方法に関する。特定の実施形態において、開示されるフォトバイオリアクター装置(100)は、一体化された燃焼の方法およびシステムの一部として利用され得、ここで、フォトバイオリアクター(100)内で利用される光合成生物が、燃焼気体内に含まれる特定の汚染化合物(例えば、CO2および/またはNOX)を少なくとも部分的に除去し、そして引き続いて、フォトバイオリアクター(100)から回収され、処理され、そして燃焼デバイスのための燃料源として利用される。
請求項(抜粋):
フォトバイオリアクターで気体を処理する方法であって、以下: 少なくとも1種の光合成生物を含有する液体媒体の流れを、該フォトバイオリアクター内に確立する工程; 該フォトバイオリアクターの少なくとも一部分および該光合成生物の少なくとも一部分を、光合成を駆動する能力を有する光の源に曝露する工程; 該光合成生物の、光合成を駆動するために十分な強度での該光への第一の曝露間隔、および該光合成生物の、暗所、または該フォトバイオリアクター内での該光合成生物の選択された増殖を得るために必要とされる光合成を駆動するために不十分な強度の光への第二の曝露間隔を計算する工程;ならびに 該計算する工程において決定された該曝露間隔に基づいて、該フォトバイオリアクター内での該液体媒体の流れを制御する工程、 を包含する、方法。
IPC (5件):
B01D53/62 ,  B01D53/56 ,  B01D53/64 ,  B01D53/77 ,  C12M1/04
FI (4件):
B01D53/34 135Z ,  C12M1/04 ,  B01D53/34 130Z ,  B01D53/34 136A
Fターム (29件):
4B029AA05 ,  4B029BB04 ,  4B029CC01 ,  4B029DB03 ,  4B029EA14 ,  4D002AA02 ,  4D002AA09 ,  4D002AA12 ,  4D002AA28 ,  4D002AA29 ,  4D002AC04 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA17 ,  4D002CA06 ,  4D002DA41 ,  4D002DA46 ,  4D002DA59 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB03 ,  4D002GB05 ,  4D002GB11 ,  4D002GB20 ,  4D002HA01 ,  4D002HA03
引用特許:
審査官引用 (9件)
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