特許
J-GLOBAL ID：200903059302518742
無電解めっき浴の再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181591
公開番号（公開出願番号）：特開平10-008261
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル又はニッケル合金めっき浴等の無電解めっき浴を繰り返し使用することを可能にする。【解決手段】 無電解析出されるべき金属の水溶性硫酸塩、その錯化剤及び還元剤として次亜リン酸ナトリウムを含み、亜リン酸ナトリウムが蓄積された無電解めっき浴に、上記無電解めっき浴から析出される無電解めっき皮膜の構成金属と同じ又はこの構成金属が2種以上である場合は少なくともその1種と同じ金属の硫酸塩、塩化物、炭酸化物、水酸化物又はこれらの複塩を上記めっき浴のめっき作業における金属イオン濃度よりも高濃度になるように添加して上記金属の難溶性亜リン酸塩を生成、沈殿させ、この難溶性亜リン酸塩を除去して上記無電解めっき浴を再生し、再使用することを繰り返す。
請求項（抜粋）：
無電解析出されるべき金属の水溶性硫酸塩、その錯化剤及び還元剤として次亜リン酸ナトリウムを含み、亜リン酸ナトリウムが蓄積された無電解めっき浴に、上記無電解めっき浴から析出される無電解めっき皮膜の構成金属と同じ又はこの構成金属が2種以上である場合は少なくともその1種と同じ金属の硫酸塩、塩化物、炭酸化物、水酸化物又はこれらの複塩を上記めっき浴のめっき作業における金属イオン濃度よりも高濃度になるように添加して上記金属の難溶性亜リン酸塩を生成、沈殿させ、この難溶性亜リン酸塩を除去して上記無電解めっき浴を再生し、再使用することを繰り返すと共に、この再使用にかかる無電解めっき浴中の硫酸ナトリウムが所定値以上に蓄積された場合、めっき浴を室温より低温に冷却して硫酸ナトリウムを析出、沈殿させ、これを除去することを特徴とする無電解めっき浴の再生方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 18/16 Z
, C23C 18/36
