特許
J-GLOBAL ID：200903059302902500

フォトマスク欠陥リペア装置

発明者：
バエ サン マン

バエ サン マン について


出願人/特許権者：
ヒュンダイ エレクトロニクス インダストリーズ カンパニー リミテッド

ヒュンダイ エレクトロニクス インダストリーズ カンパニー リミテッド について


代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035660
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 石英プレート上に積層されたクロムパターンを食刻する中に発生したパターン欠陥部位をレーザー光で効率的に除去して、フォトマスクの性能及び収率を向上させるフォトマスク欠陥リペア装置を提供することである。【解決手段】 レーザー照射体20から照射されたレーザー光22を通過させて、フォトマスクの石英プレート72上のパターン欠陥部位74を除去するための欠陥リペア装置において、前記アパーチャ形成本体内に設けられ、四方に駆動され、“L”字形に形成され、角部に四角形の第1補助ホール32が形成された第1可動アパーチャ形成部30と、前記第1可動アパーチャ形成部に、前記第1可動アパーチャ形成部が反された形状で重なり、レーザー光を通過させる光通過孔が形成され、四方に駆動され、角部に四角形の第2補助ホール42が形成された第2可動アパーチャ形成部40とを備える。
請求項（抜粋）：
レーザー照射体から照射されたレーザー光を通過させて、フォトマスクの石英プレート上のパターン欠陥部位を除去するための欠陥リペア装置において、アパーチャ形成本体内に設けられ、四方に駆動され、“L”字形に形成され、角部に四角形の第1補助ホールが形成された第1可動アパーチャ形成部と、前記第1可動アパーチャ形成部に、前記第1可動アパーチャ形成部が反された形状で重なり、レーザー光を通過させる光通過孔が形成され、四方に駆動され、角部に四角形の第2補助ホールが形成された第2可動アパーチャ形成部とから構成されることを特徴とするフォトマスクの欠陥リペア装置。
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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