特許
J-GLOBAL ID：200903059320397863
ポリッシング用電着ドレッサ
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
加藤 久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-309958
公開番号（公開出願番号）：特開2001-121418
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：
【要約】【課題】 CMP加工などの精密仕上げ加工に用いられるポリッシャのポリッシング用電着ドレッサにおいて、砥粒の脱落を防止するとともに、砥粒先端高さを揃えて研磨後のポリッシャの性能を安定化させる。【解決手段】 砥粒粒径より小さい厚さを有し砥粒粒径より大きい孔を砥粒平均粒径の2〜10倍の間隔で多数形成した絶縁シート7を定盤6上に載置し、この絶縁シート7の孔7a内に、粒径範囲が(最大粒径/最小粒径)≦1.2である砥粒4を1個づつ配設し、この上から母材2の電着面を下にして母材2を砥粒4上に載置し、この状態で砥粒4をNiメッキ15aにより仮固定し、その後定盤6と絶縁シート7を除いて再びメッキにより砥粒を本固定する製造方法によって、隣り合う砥粒の中心間隔が砥粒平均粒径の2〜10倍であり、電着後のすべての砥粒の先端高さの差が5μm以内の範囲にあるポリッシング用電着ドレッサを製造した。
請求項（抜粋）：
円盤状の母材の一面に砥粒層を電着により形成したポリッシング用電着ドレッサにおいて、隣り合う砥粒の中心間隔を砥粒平均粒径の2〜10倍としたことを特徴とするポリッシング用電着ドレッサ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B 53/12 Z
, B24B 53/00 D
3C047AA34
, 3C047EE18
, 3C047EE19
