特許
J-GLOBAL ID：200903059342173446
放射偏光光学構造及びそれを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-271288
公開番号（公開出願番号）：特開平9-184918
出願日： 1996年09月24日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：
【要約】【課題】 光学境界面への均質な入射を損失や散乱光を少なく抑え、大きな開口をもって可能にし、射出光束の効率と均質性が最適にされるような光学構造を提供すること。【解決手段】 入射光束を選択ではなく、回転によって、横断面全体でほぼ半径方向に直線偏光された光をもつ射出光束に変換する光学構造。二分の一波長板(41,42,4i)から成るラスタと、半径方向圧縮応力を受けている応力複屈折四分の一波長板(420)及び円複屈折45°回転板(430)から成る組合わせを円錐形偏光子(21′)とも組合わせる。マイクロリソグラフィ投影露光装置においては、この構造を照明部分に配置するのが好ましい。構造は全ての非対称素子又は偏光素子(103a)の背後にあることが重要である。
請求項（抜粋）：
入射光束を横断面全体でほぼ半径方向に直線偏光された光をもつ射出光束に変換する光学構造において、入射光束の偏光方向が選択されるのでなく、回転されることを特徴とする光学構造。
IPC (5件)：
G02B 5/30
, G02B 19/00
, G02B 27/28
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G02B 5/30
, G02B 19/00
, G02B 27/28 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
