特許
J-GLOBAL ID：200903059388181427
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-183656
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013345
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 この発明は液化ガスが流路内壁面に付着するのを防止したこと。【構成】 処理装置に用いる液化ガスの供給管、排気管などの流路内壁面を非付着臨界温度以上に設定することにより付着防止したこと。
請求項（抜粋）：
処理容器内に室温で液体である処理ガスを供給するガス供給装置と、このガス供給装置を前記処理ガスの非付着臨界温度以上に設定する加熱手段とを具備してなることを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/223
