特許

J-GLOBAL ID：200903059388687509

荷電粒子線転写装置

発明者： 沖野 輝昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-258728
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106470
出願日： 1996年09月30日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 分割転写方式等でマスクパターンの転写を行う際に、ウエハに対する転写像の結像特性を補正して継ぎ誤差や重ね合わせ誤差を低減する。【解決手段】 アパーチャ板31の開口を通過した電子線EBは、視野選択偏向器12A,12Bによって偏向されコンデンサレンズ11Cで平行ビームにされた後、マスク1の1つの小領域上の照射領域33に入射する。その小領域内のパターンの像が投影レンズ14及び対物レンズ15を介してウエハ5上に転写される。照射領域33の倍率や回転角を照明特性補正系30を介して補正し、ウエハ5上への転写像の倍率や回転角を、レンズ14,15及び回転補正レンズ62を介して補正する。

請求項（抜粋）：

転写すべきパターンの少なくとも一部が分割されて、互いに離間する複数の小領域内にそれぞれ形成されたマスクに対して、視野選択用の偏向照明系を介して前記小領域を単位として順次所定の断面形状を有する荷電粒子線を照射し、前記小領域内のパターンの結像系による像を転写対象の基板上でつなげて転写することによって、前記基板上に前記転写すべきパターンの少なくとも一部の像を転写する荷電粒子線転写装置において、前記基板上に形成されているパターンに応じて前記結像系による像の結像特性を補正する結像特性補正系を設けたことを特徴とする荷電粒子線転写装置。

IPC (6件)：

H01J 37/21 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

H01J 37/21 Z ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 R ,  H01L 21/30 541 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 荷電粒子線転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-150400   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-144119
  
• 特開昭54-025596
  
• 特開平4-144119
  
• 特開昭54-025596