特許

J-GLOBAL ID：200903059448247074

現像装置の環境制御装置及びその環境制御方法

発明者： 岩本 恵美子
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-187883
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007592
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 クリーンルームの空気中に含まれる化学汚染物質の濃度が高くなっても、微細なパターン欠陥又は異物の発生を防止できるようにすること及び化学フィルタが急激に劣化しないようにする。【解決手段】 制御装置21は、汚染物質濃度センサ17が測定した化学汚染物質の濃度が所定値以下であると判定すると、クリーンルーム10から取り込んだ清浄な空気をウェハ処理室11及び清浄空気貯留タンク19の両方に供給する。また、制御装置21は、汚染物質濃度センサ17が測定した化学汚染物質の濃度が所定値を超えていると判定すると、清浄空気貯留タンク19に貯留されている清浄な空気をウェハ処理室11に供給する。

請求項（抜粋）：

ウェハ処理室において、露光されたレジスト膜に対して現像を行なう現像装置の環境制御装置であって、クリーンルームより取り込んだ空気を前記ウェハ処理室に供給する空気供給手段と、前記空気供給手段に設けられ、前記ウェハ処理室に供給される空気から化学汚染物質を除去する化学フィルタと、前記空気供給手段に設けられ、前記ウェハ処理室に供給される空気中に含まれる化学汚染物質の濃度を測定する汚染物質濃度センサと、前記汚染物質濃度センサが測定した前記化学汚染物質の濃度が所定値以下であるときには、前記クリーンルームより取り込んだ空気を前記ウェハ処理室に供給する一方、前記汚染物質濃度センサが測定した前記化学汚染物質の濃度が所定値を超えるときには、前記クリーンルームより取り込んだ空気を前記ウェハ処理室に供給しないように制御する制御手段とを備えていることを特徴とする現像装置の環境制御装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  A61L 9/16 ,  F24F 7/007 ,  G03F 7/30 501

FI (4件)：

A61L 9/16 D ,  F24F 7/007 B ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 Z

Fターム (17件)：

2H096AA25 ,  2H096GA33 ,  2H096LA30 ,  3L056BD07 ,  3L056BF06 ,  4C080AA05 ,  4C080BB10 ,  4C080CC01 ,  4C080CC03 ,  4C080HH01 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK08 ,  4C080LL01 ,  4C080QQ01 ,  4C080QQ11 ,  5F046LA07 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-081300   出願人：株式会社ニコン