特許

J-GLOBAL ID：200903059517176079

マルチビーム走査装置および当該装置を備えた画像形成装置

発明者： 難波 克宏
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 中島 司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050849
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250881
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】 複数のアレイ光源を備えるマルチビーム走査装置であって、光源部から出射される複数の光ビームによる占有幅をできるだけ狭くすることでポリゴンミラー等の光学素子を小型化することが可能なマルチビーム走査装置を提供すること。【解決手段】 一のアレイ光源から発せられる2本のレーザビームが感光体ドラム上に結像されたときのビームスポットS1とS2の中心点51、52を通るビームスポット配列線21と、他方のアレイ光源から発せられる2本のレーザビームが感光体ドラム上に結像されたときのビームスポットS3とS4の中心点53、54を通るビームスポット配列線22とが、副走査方向(矢印Y方向)に1画素分の間隔を有すると共に平行になり、かつS1とS3の主走査方向(矢印X方向)におけるずれがゼロになるように、4本のレーザビームの位置を調整する。

請求項（抜粋）：

複数の光ビームを発するアレイ光源をn(n≧2)個備え、各アレイ光源からそれぞれ発せられる複数の光ビームを合成し、合成された光ビームを走査手段により被走査対象上を走査させるマルチビーム走査装置であって、一のアレイ光源から発せられる各光ビームが被走査対象上に結像されることによって形成される各ビームスポットの中心点を通る直線を、当該一のアレイ光源に対応するビームスポット配列線としたときに、各アレイ光源に対応するそれぞれのビームスポット配列線が、相互に副走査方向に所定の間隔を有すると共に平行となるように、全ての光ビームの位置が調整されていることを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (6件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 7/00 ,  H01S 5/22 610 ,  H01S 5/40 ,  H04N 1/113

FI (6件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 7/00 D ,  H01S 5/22 610 ,  H01S 5/40 ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (29件)：

2C362AA14 ,  2C362AA43 ,  2C362AA48 ,  2C362BA60 ,  2C362BA61 ,  2C362BA84 ,  2C362DA03 ,  2C362DA08 ,  2H043AD02 ,  2H043AD11 ,  2H043AD22 ,  2H045BA22 ,  2H045BA23 ,  2H045BA33 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072CA06 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA08 ,  5C072HA12 ,  5C072HB08 ,  5F073AB27 ,  5F073AB29 ,  5F073BA07 ,  5F073EA18

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-041301   出願人：日立工機株式会社
• 光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-213470   出願人：日立工機株式会社
• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-087855   出願人：株式会社リコー
• マルチビーム光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-178479   出願人：株式会社リコー