ボイラ水処理方法およびボイラ水処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野河信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-239448
公開番号（公開出願番号）：特開2002-174402
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】多様な種類のボイラにおいて、ボイラ給水の流量や水質の変化等に随時対応でき、ボイラの管理を簡易かつ迅速に行うことができ、しかも安全性の高いボイラ水処理方法およびボイラ水処理システムを提供する。【解決手段】ボイラ水処理システムは、軟水ボイラまたは純水ボイラのボイラ水にボイラ水処理薬剤を添加する薬剤添加手段と、前記ボイラから排出されるブロー水の量を制御するブロー水量制御手段と、ボイラ水中のカチオン成分またはアニオン成分の濃度を測定するためのイオン濃度測定部と、イオン濃度測定部の測定結果に基づいて薬剤添加手段および/またはブロー水量制御手段を制御する制御部とを備え、イオン濃度測定部が、軟水または純水には実質的に含有されないカチオン成分またはアニオン成分のボイラ水中における濃度を測定するイオン電極で構成されてなる。

請求項（抜粋）：

軟水ボイラまたは純水ボイラのボイラ水に、ボイラ水処理薬剤を添加してボイラ水処理を行うに際し、軟水または純水には実質的に含有されないカチオンまたはアニオン成分をボイラ水処理薬剤として、または別途にボイラ水中に添加し、そのボイラ水中における濃度をイオン電極により測定し、その結果に基づいてボイラ水を管理することを特徴するボイラ水処理方法。

IPC (11件)：

F22D 11/00 , C02F 1/20 , C02F 1/58 , C02F 5/00 620 , C02F 5/08 , C23F 11/12 101 , C23F 11/18 , C23F 14/02 , G01N 27/416 , G01N 33/18 , F22B 37/56

FI (12件)：

F22D 11/00 G , C02F 1/20 A , C02F 1/58 T , C02F 5/00 620 C , C02F 5/08 Z , C23F 11/12 101 , C23F 11/18 , C23F 14/02 A , G01N 33/18 D , F22B 37/56 A , G01N 27/46 351 B , G01N 27/46 351 J

Fターム (14件)：

4D037AA08 , 4D037BA23 , 4D038AA05 , 4D038AB27 , 4K062AA03 , 4K062BA05 , 4K062BB06 , 4K062CA03 , 4K062CA10 , 4K062DA01 , 4K062EA20 , 4K062FA02 , 4K062FA06 , 4K062GA10

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-259304
ボイラー供給水の水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-195862 出願人：株式会社サムソン
特開昭51-111388

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審査官引用 (5件)

特開平2-259304
ボイラー供給水の水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-195862 出願人：株式会社サムソン
特開昭51-111388

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