架橋性エラストマー用フィラーおよびそれを含有する架橋性エラストマー組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：朝日奈宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-117265
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309704
出願日： 1999年04月23日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】極めて異物の混入を嫌う半導体製造装置における封止のためのシール材など用の組成物に配合する、酸素プラズマ照射およびCF4プラズマ照射のいずれにおいても重量変化が小さいフィラーおよび架橋性エラストマー組成物を提供する。【解決手段】酸素プラズマ照射およびCF4プラズマ照射前後の重量変化がいずれも4mg/cm2・hr以下であるイミド構造を有する架橋性エラストマー用のフィラー、および該フィラーとフッ素系エラストマーなどの架橋性エラストマーとからなる架橋性エラストマー組成物。

請求項（抜粋）：

流量200sccm、圧力280ミリトール、RF電力400Wおよび照射時間54分間の条件で測定した酸素プラズマ照射およびCF4プラズマ照射前後の重量変化がいずれも4mg/cm2・hr以下である架橋性エラストマー用のフィラー。

IPC (12件)：

C08L 79/08 , C08J 5/00 CEW , C08J 5/00 CFH , C08J 7/04 CEW , C08J 7/04 CFH , C08K 5/3477 , C08L 27/12 , C08L 83/04 , C09D 7/12 , C09D127/12 , C09K 3/10 , H01L 21/3065

FI (14件)：

C08L 79/08 Z , C08J 5/00 CEW , C08J 5/00 CFH , C08J 7/04 CEW Z , C08J 7/04 CFH Z , C08K 5/3477 , C08L 27/12 , C08L 83/04 , C09D 7/12 A , C09D127/12 , C09K 3/10 G , C09K 3/10 M , C09K 3/10 Z , H01L 21/302 B

Fターム (69件)：

4F006AA18 , 4F006AA42 , 4F006AB19 , 4F006AB39 , 4F006CA08 , 4F006DA04 , 4F071AA26 , 4F071AA60 , 4F071AA67 , 4F071AE02 , 4F071AG16 , 4F071BC01 , 4F071BC07 , 4H017AA03 , 4H017AA04 , 4H017AA39 , 4H017AB12 , 4H017AB15 , 4H017AB17 , 4H017AD06 , 4H017AE05 , 4J002BD14W , 4J002BD15W , 4J002BD16W , 4J002CF16X , 4J002CH09X , 4J002CM05X , 4J002CN01X , 4J002CN03X , 4J002CP03W , 4J002CP08W , 4J002EH146 , 4J002EJ036 , 4J002EK036 , 4J002EK056 , 4J002EN086 , 4J002EN096 , 4J002EN106 , 4J002EN116 , 4J002ER016 , 4J002ES016 , 4J002EU026 , 4J002EU196 , 4J002EV226 , 4J002EW066 , 4J002EZ016 , 4J002FD146 , 4J002GH01 , 4J002GH02 , 4J002GJ02 , 4J002GQ00 , 4J038CD091 , 4J038CD121 , 4J038CD131 , 4J038DF052 , 4J038DJ022 , 4J038DJ052 , 4J038DK002 , 4J038DK012 , 4J038KA08 , 4J038MA02 , 4J038PB09 , 5F004AA15 , 5F004AA16 , 5F004BB29 , 5F004BB30 , 5F004BC01 , 5F004DA01 , 5F004DA26

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子回路パッケージのためのレーザー加工性で、低熱膨張率、低誘電率のコア材料、そのコア材料および電子回路パッケージの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-255635 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開平3-239389
特開昭63-281152

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