酸化マグネシウム膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-135959
公開番号（公開出願番号）：特開平9-295894
出願日： 1996年05月01日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】配向性に優れ、結晶粒径が小さく緻密なMgO膜を得ること。【解決手段】プラズマの存在下で真空蒸着法により基板上にMgO膜を形成するに際し、励起又は電離状態の水素を成膜雰囲気中に含ませる。

請求項（抜粋）：

プラズマの存在下で真空蒸着法により基板上にMgO膜を形成するに際し、励起又は電離状態の水素原子を含む雰囲気中で成膜することを特徴とする酸化マグネシウム膜の製造方法。

IPC (5件)：

C30B 29/16 , C23C 14/08 , C30B 23/08 , H01J 9/02 , H01J 11/02

FI (5件)：

C30B 29/16 , C23C 14/08 J , C30B 23/08 P , H01J 9/02 F , H01J 11/02 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

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