特許
J-GLOBAL ID：200903059560508280
微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 眞下 晋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-295500
公開番号（公開出願番号）：特開2008-112036
出願日： 2006年10月31日
公開日（公表日）： 2008年05月15日
要約：
【課題】 三次元形状の表面に凹凸を有する微細構造体を容易に効率良く製造することができる微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 基材1上にレジストパターン2aを形成するパターン形成工程と、レジストパターン2aをマスクとしてエッチングすることにより基材1の表面に凹部6を形成するエッチング工程とを備え、パターン形成工程は、複数の非レジスト部NRの幅W1が少なくとも一方向に沿って段階的に変化するようにレジストパターン2aを形成し、エッチング工程は、レジストパターン2aの非レジスト部NRの幅W1が大きいほどエッチング深さが深くなるように凹部6を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
三次元形状の表面に凹凸を有する微細構造体を製造する方法であって、
基材上にレジストパターンを形成するパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクとしてエッチングすることにより前記基材の表面に凹部を形成するエッチング工程とを備え、
前記パターン形成工程は、複数の非レジスト部の幅が少なくとも一方向に沿って段階的に変化するようにレジストパターンを形成し、
前記エッチング工程は、レジストパターンの非レジスト部の幅が大きいほどエッチング深さが深くなるように前記凹部を形成する微細構造体の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, B29C 33/38
, B81C 1/00
G02B5/18
, B29C33/38
, B81C1/00
2H049AA03
, 2H049AA04
, 2H049AA07
, 2H049AA08
, 2H049AA17
, 2H049AA33
, 2H049AA37
, 2H049AA48
, 2H049AA63
, 4F202AG05
, 4F202AH73
, 4F202AJ02
, 4F202AJ09
, 4F202CA30
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD24
