特許
J-GLOBAL ID：200903087695128146
三次元形状の形成方法、該方法により形成した三次元構造体およびプレス成形型
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-336910
公開番号（公開出願番号）：特開平8-174563
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：
【要約】【目的】 微視的に見てなめらかな三次元表面形状の形成方法を提供する。また、微小構造体やプレス成形型を提供する。【構成】 基板3上にγ値を1.0に調整したレジスト4を塗布し、露光強度を連続的に変化させる特定の遮光パターンを有するマスク1を用いてレジスト4の露光を行う(図2(a))。次いで、現像液でレジスト4の現像を行いレジスト像5を形成する(図2(b))。続いて、ドライエッチングにより、レジスト像5を基板3に転写して、三次元表面形状(体)を形成する(図2(c))。
請求項（抜粋）：
基材上にレジスト層を形成し、該レジスト層に到達する露光強度を連続的に変化させる遮光性パターンを有するリソグラフィー用マスクを用いて、前記レジスト層を露光する工程と、前記露光後のレジスト層を現像処理して三次元形状のレジスト像を形成する工程と、前記レジスト像および基材を同時にエッチングしてレジスト像の三次元形状を基材に転写する工程とを有する三次元形状の形成方法において、レジストの残膜曲線が、緩やかな傾きの残膜曲線となるようなレジストおよび/またはレジスト像形成条件を使用することを特徴とする三次元形状の形成方法。
IPC (5件)：
B29C 33/38
, B29C 33/42
, B29C 43/36
, G02B 3/00
, B29L 11:00
