特許
J-GLOBAL ID:200903059589545249
感光性組成物及びソルダーレジスト
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-119254
公開番号(公開出願番号):特開2005-301055
出願日: 2004年04月14日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】解像度及び保存安定性に優れ、その硬化物が耐熱性、耐水性及び電気絶縁性といったソルダーレジストとして必須の特性を維持しつつ、さらに柔軟性にも優れる、薄型のプリント配線板やFPC基板にも使用可能な感光性組成物の提供。【解決手段】(A)カルボキシル基を有するビスフェノール型のエポキシ(メタ)アクリレート、(B)ポリエーテルポリオール構造を有するウレタン(メタ)アクリレート、(C)一分子中に1個以上の不飽和二重結合を有する重合性化合物、(D)光重合開始剤及び(E)熱重合触媒を含有する感光性組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)カルボキシル基を有するビスフェノール型のエポキシ(メタ)アクリレート、(B)ポリエーテルポリオール構造を有するウレタン(メタ)アクリレート、(C)一分子中に1個以上の不飽和二重結合を有する重合性化合物、(D)光重合開始剤及び(E)熱重合触媒を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件):
G03F7/027
, C08F299/06
, G03F7/085
, H05K3/28
FI (5件):
G03F7/027 515
, G03F7/027 513
, C08F299/06
, G03F7/085
, H05K3/28 D
Fターム (99件):
2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AA11
, 2H025AA13
, 2H025AA20
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025BC66
, 2H025BC74
, 2H025CA00
, 2H025CC06
, 2H025CC17
, 2H025FA17
, 4J127AA03
, 4J127BA01
, 4J127BB021
, 4J127BB022
, 4J127BB031
, 4J127BB032
, 4J127BB033
, 4J127BB091
, 4J127BB092
, 4J127BB111
, 4J127BB112
, 4J127BB113
, 4J127BB211
, 4J127BB212
, 4J127BB221
, 4J127BB222
, 4J127BB223
, 4J127BC021
, 4J127BC022
, 4J127BC023
, 4J127BC121
, 4J127BC132
, 4J127BC152
, 4J127BC153
, 4J127BD171
, 4J127BD201
, 4J127BD412
, 4J127BD413
, 4J127BD432
, 4J127BD472
, 4J127BD473
, 4J127BE12Y
, 4J127BE122
, 4J127BE24Y
, 4J127BE242
, 4J127BE243
, 4J127BE34Y
, 4J127BE341
, 4J127BF17Y
, 4J127BF172
, 4J127BF173
, 4J127BF30Y
, 4J127BF301
, 4J127BF39Y
, 4J127BF39Z
, 4J127BF391
, 4J127BF61Y
, 4J127BF612
, 4J127BF613
, 4J127BG05Y
, 4J127BG05Z
, 4J127BG051
, 4J127BG14Y
, 4J127BG142
, 4J127BG143
, 4J127BG16Z
, 4J127BG161
, 4J127BG17Y
, 4J127BG17Z
, 4J127BG171
, 4J127BG27Y
, 4J127BG272
, 4J127BG273
, 4J127CB281
, 4J127CB371
, 4J127CB372
, 4J127CC011
, 4J127CC091
, 4J127CC111
, 4J127CC112
, 4J127CC161
, 4J127DA25
, 4J127DA61
, 4J127FA07
, 4J127FA08
, 4J127FA11
, 4J127FA18
, 5E314AA27
, 5E314AA32
, 5E314AA33
, 5E314CC01
, 5E314DD07
, 5E314GG17
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
特公平1-54390号公報(特許請求の範囲)
-
感光性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-077946
出願人:昭和高分子株式会社
-
特開昭61-166541
全件表示
審査官引用 (3件)
前のページに戻る