特許
J-GLOBAL ID：200903054063447798

パターン形成方法

発明者：
佐藤 弘章

佐藤 弘章 について

, 
勝間 勝彦

勝間 勝彦 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-240504
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050463
出願日： 2001年08月08日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネル(PDP)の隔壁形成、電極形成、更にはプリント配線板等の製造のためのパターン形成方法に関し、更に詳しくは連続的に安定して高精細凹凸模様の形成能に優れる、新規なパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材面に耐アルカリ性感光性樹脂組成物層(1)、及びアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物層(2)を順次設け、感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、感光性樹脂組成物層(2)の未露光部分をアルカリ現像し、次いで感光性樹脂組成物層(1)の未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して、凹凸模様を生成させることを特徴とするパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
基材面に耐アルカリ性感光性樹脂組成物層(1)、及びアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物層(2)を順次設け、感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、感光性樹脂組成物層(2)の未露光部分をアルカリ現像し、次いで感光性樹脂組成物層(1)の未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して、凹凸模様を生成させることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/095 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/00
FI (4件)：
G03F 7/095 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/00 G
Fターム (26件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB11 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC66 ,  2H025BC81 ,  2H025BJ01 ,  2H025CA00 ,  2H025DA01 ,  2H025FA17 ,  2H025FA42 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H096KA02 ,  2H096KA15 ,  2H096KA30
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM