特許
J-GLOBAL ID:200903059600064258
角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-134465
公開番号(公開出願番号):特開2009-204621
出願日: 2009年06月03日
公開日(公表日): 2009年09月10日
要約:
【課題】 デバイスの製造中に、リソグラフィ技術、およびレンズの開口数が高い瞳面で角度分解スペクトルの測定を使用して、オーバレイおよび格子形状パラメータを測定する方法を提供すること。【解決手段】 レンズの開口数が高い瞳面にて、放射線が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを測定することによって、基板の特性を求める装置および方法である。特性は、角度および波長に依存し、TMおよびTE偏光の強度、およびその相対的位相差を含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板の特性を測定するように構成されたスキャッタメータであって、
開口数が高いレンズと、
基板の表面から反射した放射線ビームの角度分解スペクトルを検出するように構成された検出器とを有し、
基板の特性は、レンズの開口数が高い瞳面にて、反射したスペクトルの特性を複数の角度で同時に測定することによって測定可能であるスキャッタメータ。
IPC (4件):
G01N 21/956
, H01L 21/027
, G03F 7/20
, G01B 11/02
FI (7件):
G01N21/956 A
, H01L21/30 502V
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 525F
, H01L21/30 514E
, G03F7/20 521
, G01B11/02 G
Fターム (51件):
2F065AA21
, 2F065AA51
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065DD06
, 2F065FF41
, 2F065FF48
, 2F065GG02
, 2F065GG03
, 2F065GG24
, 2F065JJ02
, 2F065JJ07
, 2F065JJ25
, 2F065LL03
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL30
, 2F065LL32
, 2F065LL67
, 2F065PP12
, 2F065PP13
, 2F065PP24
, 2F065QQ16
, 2F065QQ17
, 2F065QQ18
, 2F065QQ25
, 2F065QQ44
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051BA11
, 2G051BB07
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051EB09
, 5F046AA18
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB07
, 5F046CB10
, 5F046CB12
, 5F046CB24
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DB05
, 5F046DB12
, 5F046DC06
, 5F046FA03
, 5F046FA09
, 5F046FA20
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
多数角度分光分析器
公報種別:公表公報
出願番号:特願平7-504543
出願人:サーマ-ウェイブ・インク
-
特開平1-303721
-
粒子サイズの分布を測定するための装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-234586
出願人:マルベルンインスツルメンツリミテッド
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-021685
出願人:株式会社日立製作所
-
特許第6772084号
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審査官引用 (5件)
-
多数角度分光分析器
公報種別:公表公報
出願番号:特願平7-504543
出願人:サーマ-ウェイブ・インク
-
特開平1-303721
-
粒子サイズの分布を測定するための装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-234586
出願人:マルベルンインスツルメンツリミテッド
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-021685
出願人:株式会社日立製作所
-
特許第6772084号
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