特許
J-GLOBAL ID：200903059608695885
ガス発生装置及びガス発生装置を組込んだシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239286
公開番号（公開出願番号）：特開平11-079701
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：
【要約】【課題】 反応温度を低くして連続的に水から水素を製造する。【解決手段】 ガス発生装置1はステンレスからなる密閉容器2を備え、密閉容器2は容器本体3と開閉自在な蓋体4からなり、容器本体3には下方から回転軸5が挿入され、この回転軸5には羽根6,7が設けられている。羽根6,7は向きが逆方向に設定され、回転軸5が回転することで、羽根6によって密閉容器2内に収納されたゼオライト(金属酸化物)8は外側部が上昇流となり、中央部が下降流となり、全体として循環流が形成される。
請求項（抜粋）：
内部に金属酸化物を収納可能とした密閉容器と、この密閉容器内を減圧せしめる減圧手段と、前記密閉容器の外側に設けられる加熱手段と、前記密閉容器内に収納される金属酸化物に水を供給すべく密閉容器内の上部空間に挿入される水供給手段とを備えたガス発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 3/04 R
, B01J 7/00 Z
