特許

J-GLOBAL ID：200903059637590596

合成ダイヤモンドのアブレーション法と得られたダイヤモンド

発明者： ラビンドラ エヌ.チャックラボーティ ,  ドニー ケー.レインハード ,  マイケル ジェイ.フェレッチア ,  ポール ディー.ゴールドマン
出願人/特許権者： サン ゴバン/ノートン インダストリアル セラミックス コーポレイション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-137645
公開番号（公開出願番号）：特開平8-301692
出願日： 1996年05月07日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【課題】 ダイヤモンドウェハーをプラズマエッチングによって高いエッチング速度でアブレーションする方法であって、特に表面に不規則性形状のピットが存在しないアブレーション方法を提供する。【解決手段】 a)ダイヤモンド表面にコロイド性グラファイトを施し、b)コロイド性グラファイトを帯びたダイヤモンド表面をプラズマエッチングに供する、各工程を含む合成ダイヤモンドのアブレーション方法。好ましくは、c)プラズマエッチングの後にその表面をアブレーションに供する工程をさらに含み、プラズマエッチングに供するその工程に酸素が存在し、リアクターへの供給電力が約500〜1500W、高周波バイアスが約-100V〜-300Vであり、その酸素、アルゴン、及びSF6 の流量がそれぞれ約20〜40、0〜20、及び1〜4sccmであり、エッチングを約2〜10ミリトールの圧力で行う。

請求項（抜粋）：

a)ダイヤモンド表面にコロイド性グラファイトを施し、b)コロイド性グラファイトを帯びたダイヤモンド表面をプラズマエッチングに供する、各工程を含む合成ダイヤモンドのアブレーション方法。

IPC (2件)：

C30B 29/04 ,  B01J 19/08

FI (3件)：

C30B 29/04 V ,  C30B 29/04 N ,  B01J 19/08 H

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ダイヤモンドの平坦化法および研磨法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-034632   出願人：住友電気工業株式会社