特許
J-GLOBAL ID：200903059652252354

密着型露光装置

発明者：
田 島 恒 宗

田 島 恒 宗 について

, 
籾 井 勲

籾 井 勲 について


出願人/特許権者：
株式会社アドテックエンジニアリング

株式会社アドテックエンジニアリング について


代理人 (1件)： 高橋 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-180710
公開番号（公開出願番号）：特開2004-029063
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】フォトマスクと基板の密着性の高い密着型露光装置を提供する。【解決手段】位置合わせなどの所定の処理が終了すると、制御装置99は移動機構21を制御してプラテン20を上方に移動させて、フォトマスク1と基板2とを接近させ、シール4により両者間に密閉空間が形成される位置で停止し、同時に制御装置99は吸引ポンプ51を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク1と基板2の間の空間は負圧状態となり、フォトマスク1は下方に撓んで中央部が膨出し、この中央部が基板2に接触する。制御装置99はカム駆動機構31を制御して、吸引と同時にカム30を回動させて、フォトマスク1を中央部から次第に周辺部まで基板2に接触させ、この過程で中央部から周辺部に向かって徐々に空気を押し出しつつ基板2に密着させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光すべきパターンが描かれ、露光対象物に接触して露光されるフォトマスクと、 前記フォトマスクと露光対象物とを密着可能に相対的に接近させる手段と、 前記フォトマスクが露光対象物と部分的に接触する第1の位置と、前記フォトマスクが露光対象物と全体的に接触する第2の位置とを保持する位置保持手段と、 前記フォトマスクと被露光対象物との間をシールする手段と、 前記フォトマスクの被露光対象物との間を吸引する手段と、 を備えたことを特徴とする密着型露光装置。
IPC (2件)：
G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 508
Fターム (6件)：
2H097GA45 ,  2H097KA03 ,  2H097LA09 ,  5F046BA01 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09
引用特許：
審査官引用 (3件)

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