特許

J-GLOBAL ID：200903059718185840

化学蒸着装置

発明者： 野村 秀二
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-108425
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299314
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 発熱体からの熱輻射を低減させることでさらに低温で成膜するとともに、均一な薄膜を作成する。【解決手段】 処理容器1内にガス供給系2によって供給された原料ガスが、エネルギー供給機構6によって所定の高温に維持された発熱体4の表面で分解及び又は活性化し、基板9の表面に薄膜が作成される。発熱体4はワイヤー状の部材であって、仮想の錐面上に軸対称になるよう屈曲させて設けられている。基板9は、発熱体4を見込む角が小さくなり受ける熱輻射が少なくなるとともに、この表面に作成される薄膜が均一になる。

請求項（抜粋）：

内部で基板に対して所定の処理がなされる処理容器と、処理容器内を所定の圧力に排気する排気系と、処理容器内に所定の原料ガスを供給するガス供給系と、供給された原料ガスが表面を通過するように処理容器内に設けられた発熱体と、発熱体が所定の高温に維持されるよう発熱体にエネルギーを与えるエネルギー供給機構と、所定の高温に維持された発熱体の表面に供給されることで分解及び又は活性化した原料ガスが到達して所定の薄膜が作成される処理容器内の所定の位置に基板を保持する基板ホルダーとを備えた化学蒸着装置であって、前記発熱体は、基板の中心軸に対して対称であるとともに基板に対して非平行になっていることを特徴とする化学蒸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/318

FI (3件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/318 B

Fターム (40件)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA40 ,  4K030EA01 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030KA12 ,  4K030KA24 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F045AB10 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AE25 ,  5F045BB02 ,  5F045BB07 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EF05 ,  5F045EK08 ,  5F045EK24 ,  5F045EK30 ,  5F058BC02 ,  5F058BC08 ,  5F058BC11 ,  5F058BF02 ,  5F058BF23 ,  5F058BF30 ,  5F058BF54

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭63-224216
  
• 特開平3-103396
  
• 触媒化学蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-221008   出願人：アネルバ株式会社
• 特開昭63-277591
  
• 特開平3-069593
  
• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-321144   出願人：アネルバ株式会社